SF6 veya kükürt hekzaflorür, kuru aşınamada yaygın olarak kullanılan bir gazdır, esas olarak yarı iletken üretim işleminde silikon aşınması için kullanılan. SF6 gazı, altı flor atomuyla çevrili merkezi bir kükürt atomundan oluşan oktahedral bir yapıya sahiptir. Polar olmayan özellikleri onu yüksek voltajlı elektrikli ekipmanlarda bir yalıtım gazı haline getirir. SF6'nın fiziksel özellikleri arasında renksiz, kokusuz, yüzemeyen, toksik olmayan, yalıtım, havadan daha ağır, soğutma kapasitesi, yüksek dielektrik mukavemet, termal stabilite ve zayıf çözünürlükü içerir, ancak polar olmayan organik çözücülerde çözünür.
Kimyasal özellikler açısından SF6, oda sıcaklığında diğer maddelerle neredeyse hiç reaksiyona girmez, ancak güçlü ultraviyole ışık altında ayrışır.
SF6 genellikle sanayi tarafından üretilir ve doğadaki içeriği çok azdır. SF6 üretimi için reaksiyon denklemi şöyledir:
2 cof₃ + sf₄ + [br₂] → sf₆ + 2 cof₂ + [br₂]
SF₄, COF₃ ve BR₂ birbirine karıştırıldığında ve 100 derecede ısıtıldığında, aralarında bir reaksiyon meydana gelir. Bu reaksiyonda, SF₄ ve COF₃'nin bir kısmı SF₆ ve Cof₂ üretmek için reaksiyona girer. Brom reaksiyonda tüketilmez, sadece bir katalizör görevi görür.
SF6 tehlikeli mi?
SF6 saf haliyle toksik olmamasına rağmen, havadaki oksijenin yerini alacak ve havadaki hacim konsantrasyonunun %19'dan fazla olması boğulmaya neden olacaktır. Bu nedenle yarı iletken üretim sürecinde SF6 sızıntılarının zamanında tespit edilmesi ve uygun önleyici tedbirlerin alınması çok önemlidir.
SF6 Yarıiletken endüstrisinde kullanımı
SF6, yarı iletken üretiminde yaygın olarak kullanılmaktadır. Silikon aşındırma işleminde ana aşındırma gazı olarak SF6 kullanılır ve derin silikon aşındırma elde etmek için üretilen uçucu gazlar SF4 ve C4F8 ile birlikte çalışır. Ek olarak, SF6 sıklıkla Mo ve W metallerinin kuru aşındırılmasında kullanılır ve bu metallerle reaksiyona girerek uçucu heksaflorürler MoF₆ ve WF₆ üretir. SF6, alüminyum aşındırma için tercih edilen gaz olmasa da, Cl₂ gibi gazlarla karıştırıldığında alüminyumun aşındırma hızını arttırmak için yardımcı gaz olarak kullanılabilir.
Silikon Dağlama
Silikon aşındırma adımında, sadece pasivasyon filminin çıkarıldığı alttaki silikon kazınır. SF6 gazı tanıtılır ve SF6, yüksek oranda aktif flor atomları (F) dahil olmak üzere çeşitli ayrışma ürünleri üretmek için plazmada ayrılır.
SF6-->SF4+F2-->SF2+2F2-->F+...
Üretilen flor atomları, odadan kolayca boşaltılan uçucu bir bileşik olan silikon tetraflorürü (SiF4) oluşturmak için silikon yüzeyiyle reaksiyona girer.
Si+4F-->SIF4
Alt pasivasyon katmanı aşındırma
Bu aşamada, hem yan duvarda hem de altta bir pasivasyon tabakası oluşur. Bununla birlikte, yan duvarın kazınmasını önlemek için sadece pasivasyon katmanını yan duvarda tutmak istiyoruz, ancak aşağı doğru aşındırmak için alttaki pasivasyon katmanını çıkarmamız gerekiyor. Bu nedenle, şu anda alttaki pasivasyon katmanına saldırmak için SF6 gazı tanıtılacaktır. Alttaki pasivasyon tabakası kaybolduktan sonra, SF6 silikonu aşındırmaya devam eder ve döngü, hiç bitmeyen bir döngü gibi kendini tekrarlar.
Çin'de Tek Noktadan Sf6 Sülfür Heksaflorür Fabrikası
Kükürt hekzaflorür SF6 gazı ile ilgili sorunuzu bize gönderin!
Satın alma ihtiyaçlarınızı karşılamak için yüksek kaliteli SF6 gaz ve hizmetleri sunacağız.
Şimdi Soruşturmayı Gönder
